AMD2 自動グラジェント展開槽
- 自動化されたグラジエント展開槽
- 展開距離を段階的に延ばすステップワイズグラジエント展開
- 分離能の向上
- HPTLCガラスプレート（20 × 10 cm）のみ対応
自動グラジェント展開槽AMD2は、グラジエント展開に特化して設計された展開槽で、複雑な成分分離の課題を効率的に解決します。
複雑なサンプルの分離は、特に成分の極性範囲が広い場合、どのクロマトグラフィーシステムにとっても難しい課題です。AMD（Automated Multiple Development）法は、展開距離を段階的に延ばすステップワイズグラジエント展開を行うことで、この課題に対して優れた解決策を提供します。これにより、酸・塩基・中性物質・親水性物質・疎水性物質を、単一のAMDで同時に分離できます。
AMDは、脂質分析や飲料水のルーチン分析で広く利用されています。さらに、複雑な組成を持つ顔料、樹脂、鉱油製品の添加剤などの分析にも活用されています。
AMDの原理
HPTLCプレートは、同じ方向に繰り返し展開します。
展開を繰り返すごとに、溶媒が移動する距離を少しずつ長くします。
各展開の後は、展開槽から溶媒を完全に取り除き、プレートを真空下で乾燥させます。
次の展開では、前回よりも溶出力の低い溶媒を使います。こうして段階的な溶出グラジエントを作ります。
「フォーカシング効果」と「グラジエント展開」を組み合わせることで、バンド幅が非常に狭くなります。ピーク幅はおよそ1mmで、80mmの分離距離で最大40成分を完全に（ベースラインまで）分離できます。
| 仕様 | AMD2 | ADC2 | AMD2 | ATS4 | Derivatizer | Linomat5 | Plate Heater 3 | smartAlert | TLC Scanner 4 | TLC Visualizer | Twin trough chamber | UV Lamp 4 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| プレートの種類 | TLC/HPTLCガラスプレート 20 x 10 cm | TLC/HPTLCガラスプレート 20 x 10 cm | |||||||||||
| ガス供給 | 窒素ガスもしくは圧縮空気(4.5-6 bar/60-90psi） | 窒素ガスもしくは圧縮空気(4.5-6 bar/60-90psi） | 窒素ガスもしくは圧縮空気(4-6bar/58-87psi） | 窒素ガスもしくは圧縮空気(4-6bar/58-87psi） | |||||||||
| ガス消費量 | 約 1 L / gradient step | 約 1 L / gradient step | |||||||||||
| 環境温度 | 15～30℃ | 15～30℃ | |||||||||||
| 溶媒フロント検出 | CCD、精度±1mm以上 | CCD、精度±1mm以上 | |||||||||||
| 展開ステップ数 | 最大99 | 最大99 | |||||||||||
| 電源 | 100V～240V、50/60Hz | 100-240V AC 50/60Hz, 20W | 100V～240V、50/60Hz | 85-250V 47-63Hz | 100 – 240 VAC | 100-120V 50-60Hz | 115 V, +/- 10%; 50/60 Hz | 100–240 V; 50/60 Hz; 50 W (撮影装置) / 3.5 W (カメラ) | |||||
| 寸法 | 430 x 500 x 360 mm | 330×330×520（W×D×H） | 430 x 500 x 360 mm | W630、D530、H500mm | 245 × 430 × 355 mm | W360、D510、H410 | 420×306×34mm | W650、D590、H367mm | W480, D537, H596 mm | ||||
| 重さ | 31 kg | 31 kg |
| オプション |
|---|
- 比較する:
- ADC2
- ATS4
- Derivatizer
- Linomat5
- Plate Heater 3
- smartAlert
- TLC Scanner 4
- TLC Visualizer
- Twin trough chamber
- UV Lamp 4